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沪州微电子一点儿都不缺业务，哪怕造不出顶尖的光刻机，就算是中低端的光刻机也是生产一台就能卖出一台，根本就不愁。
就拿SSA600系列前道制造光刻机来说，沪州微电子一年的产能也就四五十台而已。
原本晶圆厂要购买光刻机，尤其是90nm精度的SSA600系列，那订单是需要很长时间的预约排队的，但这次，沪州微电子很积极，苏父下完订单之后次日就有工程师联系了。
这就是实力的作用。
沪州微电子肯定也知道光芯科技现在是“辅脑”主芯片的代工厂，他们甚至了解到翟竖现在就在锡州，真的就是圈子之内没有秘密。
光刻机的购买当然有专门的人去谈，而翟竖的任务就是跟一同前来的一种工程师们了解情况。
沪州微电子似乎是知道翟竖有这个打算，光是工程师就来了几十个，甚至还有参与研发新型号SSA800系列样机的顶尖工程师。
一间不小的会议室都被挤得满满当当的，这些人还都带着自己的笔记本，甚至各种资料都准备的很齐全。
……
“我们现在最大的问题就是稳定性，SSA800系列已经制造了三台样机，但一言难尽，三台样机各不相同。”
当翟竖问道SSA800系列现在遇到的困难的时候，原以为这些工程师们不会回答，毕竟设计未发布产品的机密。
但今天，他们好像没有把翟竖当外人似的，一股脑的把所有的问题全都说出来了：
“看似完全一样的光刻机，在试产中的表现可谓是千差万别，好的那台，实验室生产良率能够达到80%，但另外两台，良率最高就只能达到二三十，我们甚至请了台积电的顶尖专家来帮助我们打造实验室产线，但效果也没有明显提升。”
现代超大规模集成电路芯片的制造，那无疑是一个非常复杂非常精密极为高端的工作。
仅就光刻这个过程而言，就有着非常复杂且繁琐的步骤。
简单说来，芯片制造的过程就是将IC设计厂商发来的一层一层又一层的IC设计“光罩图”中的电路图转移到晶圆上。
形象的说，整个过程其实和老式的洗照片的的工艺非常的相似，当然，精密度完全不是一个级别的，相差了有十万八千里吧。
芯片制造的过程，最复杂也莫过于光刻，也就是把图像从掩膜版转移到晶圆上的这一过程。
这一过程十分复杂，总结起来，大都包含如下十个步骤，也就是光刻的十步法：
清洗并甩干晶圆表面、涂光刻胶、软烘焙加热光刻胶部分蒸发、精确对准掩膜版与晶圆并曝光光刻胶、祛除非聚合的光刻胶、硬烘焙光刻胶溶剂继续蒸发、检查表面的对准和缺陷、刻蚀、祛除光刻胶然后进行最终检查。
这其中每一个步骤都必须精密细致，任何一点的瑕疵都可能导致工艺的良率降低，甚至是直接失败。
翟竖也听出来了，沪州微电子的工程师们还真是怨念满满，这么多的流程，现在出了问题，出在哪个环节都不知道。
就算品质较好的那台试验品，实验室也只有百分之八十的良品率，那真要是生产环境呢？
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