“这怎么可能！”
光芯科技新改造的四号工厂，一众工程师们同时发出了一声惊叹！
SSA800系列第一台实验样机被送往这里组建了一条生产实验生产线，而此刻正在进行的就是一次光刻生产过程。
这个过程正是运用了翟竖通过全新理念改造的光刻机控制系统。
通过极低时延监测动态控制调整光源曝光，进行误差补偿性纠偏。
真的还能这么玩？
一众工程师们一边感叹一边又十分纠结：这样也太匪夷所思了，从来没有人这么干过啊！
更何况，升级光源控制系统，这本身就是对光刻机的一种改进啊，这么短的时间，翟竖是怎么做到的？
无数的疑问萦绕在心头，但此刻工厂内除了机器的嗡嗡声再无一点声音，所有人都面面相觑，没有说话。
这次改造，对沪州微电子的工程是们来说就是一次完全的颠覆，不仅颠覆现实，更是颠覆了他们的认知。
……
沪州微电子的工程师们一遍又一遍的做着验证与测试，每验证和测试一遍，他们内心的感慨和震撼就多一分。
光刻机控制系统的升级，说起来就几个字，但这里边的工作有多大别人不清楚，作为沪州微电子的工程师的他们可是清楚的很。
尤其是对于光刻机这种集成度极高，流程极为复杂和庞大的大家伙来说，那就是更加复杂了。
光刻机集成度有多高？流程有多复杂？物件有多庞大？
这么说，就这个东西，成品，一个一个部件拉过来，光是组装，就花了近百工程师和一众工作人员近一个月的时间。
就这，还是中低端光刻机。
阿斯麦的EUV光刻机成品，买回来，光是安装调试那都至少需要半年到一年的时间，可想而知到底的庞大。
这样一个庞然大物，他的系统的改造那会是一件简单的事情吗？
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